纳米二氧化硅抛光粉
晶瑞新材料 甘先生 186 2016 2680微芯:gzjr88

我公司二氧化硅抛光是一种高纯度颗粒均匀，分散性好，切削力好，镜面效果好的抛光粉，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，
抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料，光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
 
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、光学器件、宝石玉器等的抛光加工。
技术指标：
型号 外观 粒径 纯度 应用
VK-SP20F 白色粉末 20-30nm 99.8% 精抛
VK-SP50F 白色粉末 50nm 99.8% 精抛
VK-SP100F 白色粉末 100nm 99.8% 精抛
 
我公司生产的纳米二氧化硅抛光粉具有粒径小、分散性好，粘度低，抛光亮度高，光泽细腻，可以解决材料表面粗糙度、波纹度和表面缺陷等问题。 可以做光学玻璃抛光，玻璃水钻抛光，宝石抛光，金属抛光，石材抛光等精抛。也可参杂到抛光膏或抛光蜡里面当抛光蜡主料。
 用量
推荐用量为8～20％，调成浆料再进行抛光。
储藏：常温密闭储藏。
包装：10公斤/袋.
纳米二氧化硅抛光粉 ，光学玻璃抛光，玻璃水钻抛光